平素は格別のご愛顧を賜り、厚く御礼申し上げます。
弊社は開発当初よりカートリッジ式フィルターによる物理ろ過、活性石による微生物ろ過、オゾンによる殺菌システムを採用し、浴水の安全管理に万全を記してまいりました。
しかし、平成11年11月に厚生省生活衛生局企画課の監修のもとに(財)ビル管理教育センターによって『新版レジオネラ症防止指針』が発行。平成13年9月には『循環式浴槽におけるレジオネラ症防止対策マニュアル』が作成。平成15年2月14日には『公衆浴場における衛生管理要綱の改正について』が発行されました。
弊社と致しましては、現在レジオネラ属菌の不検出を目標とし、機器の開発を進めております。ただしレジオネラ属菌は常在菌であり混入経路もさまざまです。レジオネラ属菌はバイオフィルム(微生物膜)の中で増殖する為、ろ過装置・ろ過系統配管内のバイオフィルムの定着を防ぐ事がレジオネラ属菌の発生を防ぐ有効な対策とし、目標値である10cfu/100ml未満(不検出)をクリアすべく、当該製品にあわせた浴水衛生管理要綱を作成致しました。
今後当該製品を安心してご使用して頂く為にも、衛生管理項目の重要性のご理解をお願い申し上げます。
−記−
浴槽水の遊離残留塩素濃度を0.2〜0.4mg/L程度(1.0mg/Lを越えない程度に努める)を保つよう塩素投入量の調整、遊離塩素濃度の測定、記録保持をお願いいたします。
塩素投入には、1. 錠剤、または顆粒を直接浴槽に投与する方法、2. 自動薬液注入器によりろ過系統配管へ自動注入する方法があります。
毎日塩素剤を直接浴槽に投入し、約2時間後に遊離残留塩素濃度を測定し記録願います。
薬液注入装置により自動的に塩素を注入します。毎日同時刻に遊離残留塩素濃度を測定し記録願います。
1週間に1回以上、浴水の交換と浴槽の洗浄を実施してください。
ヘアキャッチャーが設置されている場合は毎日清掃を実施してください。
定期的な保守メンテナンス(フィルター交換、活性石の洗浄、機器の動作確認、塩素滅菌装置の点検 等)が必要となります。
以上